[发明专利]在光刻术中的物体定位有效
申请号: | 201480058785.6 | 申请日: | 2014-09-25 |
公开(公告)号: | CN105706001B | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | H·巴特勒;R·I·卡米迪;Y·卡森辛萨普 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种物体定位系统,包括物体(P);测量系统(MS),用于测量物体的位置(APOS);致动器系统(AS),用于定位物体;控制系统(CU、OBS),所述控制系统被配置用于驱动致动器系统,其中测量系统的每个传感器具有相关联的在物体上的测量区域,其中物体上的至少一个测量区域的位置取决于物体的位置,其中控制系统(CU、OBS)包括具有物体的动态模型的观测器(OBS),以估计物体的内动态行为(IDB),其中动态模型包括至少一个测量区域的位置对物体的位置的依赖性,并且其中控制系统(CU、OBS)同样被配置用于依赖于观测器(OBS)的输出(IDB)驱动致动器系统(AS)。 | ||
搜索关键词: | 光刻 中的 物体 定位 | ||
【主权项】:
一种物体定位系统,包括:待定位的物体;具有一个或多个传感器的测量系统,用于测量物体相对于参照物在一个或多个自由度上的位置;具有一个或多个致动器的致动器系统,用于定位物体;控制系统,所述控制系统被配置用于依赖于测量系统的输出和代表物体的期望的位置的设定点来驱动致动器系统,其中测量系统的所述一个或多个传感器中的每个传感器具有相关联的在物体上的测量区域,所述物体相对于参照物在一个或多个自由度上的位置被测量,其中物体上的至少一个测量区域的位置取决于物体在至少一个自由度上的位置,其中控制系统包括具有物体的动态模型的观测器,以基于对物体的输入和测量系统的输出来估计物体的内动态行为,其中动态模型包括至少一个测量区域的位置对物体在至少一个自由度上的位置的依赖性,其中控制系统被配置用于依赖于观测器的输出来驱动致动器系统。
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