[发明专利]近红外线吸收性组合物、使用其的近红外线截止滤波器及其制造方法、照相机模块及其制造方法以及固体摄影元件在审

专利信息
申请号: 201480041231.5 申请日: 2014-07-23
公开(公告)号: CN105392844A 公开(公告)日: 2016-03-09
发明(设计)人: 高桥秀知;川岛敬史;稲崎毅;人见诚一 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C08L101/02 分类号: C08L101/02;C08K5/00;C09K3/00;G02B5/22
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 陶敏;臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种近红外线吸收性组合物、使用其的近红外线截止滤波器及其制造方法、照相机模块及其制造方法、以及固体摄影元件,所述近红外线吸收性组合物可形成可维持高的近红外线遮蔽性且耐热性优异的硬化膜。本发明的近红外线吸收性组合物含有:近红外线吸收性化合物(A1),其是由含有两个以上的对金属成分的配位部位、或含有对金属成分的配位部位与交联性基且分子量为1800以下的低分子化合物或其盐与金属成分的反应所得;以及近红外线吸收性化合物(B),其是由含有下述式(II)所表示的重复单元的高分子化合物或其盐与金属成分的反应所得。下述式(II)中,R2表示有机基,Y1表示单键或二价连结基,X2表示对金属成分的配位部位。
搜索关键词: 红外线 吸收性 组合 使用 截止 滤波器 及其 制造 方法 照相机 模块 以及 固体 摄影 元件
【主权项】:
一种近红外线吸收性组合物,含有:近红外线吸收性化合物(A1),其是由含有两个以上的对金属成分的配位部位、或含有对金属成分的配位部位与交联性基且分子量为1800以下的低分子化合物或其盐与金属成分的反应所得;以及近红外线吸收性化合物(B),其是由含有下述式(II)所表示的重复单元的高分子化合物或其盐与金属成分的反应所得;式(II)中,R2表示有机基,Y1表示单键或二价连结基,X2表示对金属成分的配位部位。
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