[发明专利]用于制造用于远紫外‑平版印刷的渗钛硅土玻璃构成的镜基质‑坯料的方法以及用于坯料中的缺陷的位置确定的系统有效
申请号: | 201480039150.1 | 申请日: | 2014-07-02 |
公开(公告)号: | CN105378464B | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
发明(设计)人: | K.贝克 | 申请(专利权)人: | 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 |
主分类号: | G01N21/958 | 分类号: | G01N21/958;B24B13/00;G01N21/896 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 杨国治,宣力伟 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提出一种用于制造具有至少40毫米厚度的用于远紫外‑平版印刷的渗钛硅土玻璃构成的镜基质‑坯料的方法,其带有以下步骤·a)平面磨削坯料的表面·b)测定关于在坯料的表面层中的缺陷的数据,其中,b1)光在所述坯料的平的表面的部位处以预先确定的小于90°的射入角α射入所述坯料中,b2)所述光在坯料中的缺陷处散射且b3)散射光相对在所述坯料的表面处的射入部位间隔x地由在其上垂直布置的光检测元件探测;·c)根据在方法步骤b)中获得的数据确定在表面层中的缺陷的位置·d)在考虑根据方法步骤c)的位置确定的情况下且在构造镜基质‑坯料的情况下部分地或完全地移除表面层。 | ||
搜索关键词: | 用于 制造 紫外 平版印刷 渗钛硅土 玻璃 构成 基质 坯料 方法 以及 中的 缺陷 位置 确定 | ||
【主权项】:
用于制造具有至少40毫米厚度的用于远紫外‑平版印刷的渗钛硅土玻璃构成的镜基质‑坯料(1;11)的方法,具有以下步骤:a) 平面磨削坯料(1;11)的表面(2;21)b) 测定关于在所述坯料(1;11)的表面层中的缺陷(6;6.1;6.2;6.3)的数据,其中,b1) 光(3)在所述坯料(1;11)的平的表面(2;21)的部位处以预先确定的小于90°的射入角α射入所述坯料(1;11)中,b2) 所述光(3)在所述坯料中的缺陷(6;6.1;6.2;6.3)处散射且b3) 散射光(5)相对在所述坯料(1;11)的表面(2;21)处的射入部位(4)间隔x地由在所述坯料上方垂直布置的光检测元件(8)探测;c) 根据在方法步骤b)中获得的数据确定在表面层中在所述表面以下的深度T处的缺陷(6;6.1;6.2;6.3)的位置,其中,为了确定所述深度T,应用以下公式:T=x/(tan(arcsin(sin(90‑α)/n))),其中,n是所述渗钛硅土玻璃的折射系数;d) 在考虑根据方法步骤c)的位置确定的情况下且在构造镜基质‑坯料(1;11)的情况下部分地或完全地移除表面层。
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