[发明专利]用于制造用于远紫外‑平版印刷的渗钛硅土玻璃构成的镜基质‑坯料的方法以及用于坯料中的缺陷的位置确定的系统有效
申请号: | 201480039150.1 | 申请日: | 2014-07-02 |
公开(公告)号: | CN105378464B | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
发明(设计)人: | K.贝克 | 申请(专利权)人: | 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 |
主分类号: | G01N21/958 | 分类号: | G01N21/958;B24B13/00;G01N21/896 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 杨国治,宣力伟 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 紫外 平版印刷 渗钛硅土 玻璃 构成 基质 坯料 方法 以及 中的 缺陷 位置 确定 | ||
1.用于制造具有至少40毫米厚度的用于远紫外-平版印刷的渗钛硅土玻璃构成的镜基质-坯料(1;11)的方法,具有以下步骤:
a) 平面磨削坯料(1;11)的表面(2;21)
b) 测定关于在所述坯料(1;11)的表面层中的缺陷(6;6.1;6.2;6.3)的数据,其中,
b1) 光(3)在所述坯料(1;11)的平的表面(2;21)的部位处以预先确定的小于90°的射入角α射入所述坯料(1;11)中,
b2) 所述光(3)在所述坯料中的缺陷(6;6.1;6.2;6.3)处散射且
b3) 散射光(5)相对在所述坯料(1;11)的表面(2;21)处的射入部位(4)间隔x地由在所述坯料上方垂直布置的光检测元件(8)探测;
c) 根据在方法步骤b)中获得的数据确定在表面层中在所述表面以下的深度T处的缺陷(6;6.1;6.2;6.3)的位置,其中,为了确定所述深度T,应用以下公式:T=x/(tan(arcsin(sin(90-α)/n))),其中,n是所述渗钛硅土玻璃的折射系数;
d) 在考虑根据方法步骤c)的位置确定的情况下且在构造镜基质-坯料(1;11)的情况下部分地或完全地移除表面层。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光(3)进入所述坯料(1;11)的平的表面(2;21)上的角度α设立在5°至75°的范围中。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光(3)是激光。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,产生带有行聚焦的激光(3)且为了产生该激光使用具有名义功率为至少1mW的激光器。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,选择在波长范围500nm至1500nm中发光的激光器。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光检测元件(8)为了检测从所述坯料(1;11)中的缺陷(6;6.1;6.2;6.3)中出发的散射光(5)是带有评价单元的摄像机系统的部分。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述摄像机系统检测所述散射光(5)的强度且在所述评价单元中从中计算上确定所述缺陷(6;6.1;6.2;6.3)的大小。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,平面磨削的坯料(1;11)在根据方法步骤b)确定关于缺陷(6;6.1;6.2;6.3)的数据前以沉浸油全平面地浸湿。
9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,射入部位(4)和所述光检测元件(8)光栅状地在所述坯料(1;11)的平面磨削的表面(2;21)上方引导。
10.以根据权利要求1所述的方法用于在具有至少40毫米的厚度的用于远紫外-平版印刷的渗钛硅土玻璃构成的镜基质-坯料(1;11)中的缺陷(6;6.1;6.2;6.3)的位置确定的系统,带有用于探测散射光(5)的光检测元件(8)和光源(7),其中,所述光源(7)关于所述坯料(1;11)布置成使得光(3)以预先确定的小于90°的射入角α射入所述坯料(1;11)的平面磨削的表面(2;21)中,所述光在所述坯料(1;11)中的缺陷(6;6.1;6.2;6.3)处散射,所述光检测元件(8)布置成使得所述光检测元件(8)垂直地在所述坯料(1;11)的表面(2;21)上方探测相对射入部位(4)间隔x地发出的散射光(5)且评价单元根据由所述光检测元件(8)测得的数据确定所述缺陷(6;6.1;6.2;6.3)的位置,
其中,为了根据获得的数据确定在表面层中的缺陷的位置,参考缺陷位于所述表面以下的深度T,应用以下公式:T=x/(tan(arcsin(sin(90-α)/n))),其中,n是所述渗钛硅土玻璃的折射系数。
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