[发明专利]半导体膜的制造方法、半导体膜制造用原料粒子、半导体膜、光电极以及色素敏化太阳能电池有效
| 申请号： | 201480024102.5 | 申请日： | 2014-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN105164316B | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 片桐友章;藤沼尚洋;功刀俊介;中岛节男 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C24/04 | 分类号： | C23C24/04;H01G9/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明是一种半导体膜的制造方法，其特征在于，通过将含有半导体粒子的原料粒子吹附于基材而在所述基材上制成半导体膜，该半导体粒子是使抑制半导体粒子彼此凝聚的凝聚抑制物质附着于表面而成的半导体粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 制造 方法 原料 粒子 电极 以及 色素 太阳能电池 | ||
【主权项】：
一种半导体膜的制造方法，其特征在于，通过将含有半导体粒子的原料粒子在将其干燥的状态下吹附于基材而在所述基材上制成半导体膜，所述半导体粒子是使抑制半导体粒子彼此凝聚的凝聚抑制物质附着于表面而成的半导体粒子，所述凝聚抑制物质为选自醇、脂肪族酮、腈、以及烷氧基硅烷中的一种以上的有机分子。
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