[发明专利]具有CVD涂层的工具有效

专利信息
申请号: 201480022401.5 申请日: 2014-04-16
公开(公告)号: CN105247099B 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 德克·施廷斯;萨卡里·鲁皮;托斯滕·曼斯 申请(专利权)人: 瓦尔特公开股份有限公司
主分类号: C23C16/34 分类号: C23C16/34
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 吴润芝;郭国清
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种工具,所述工具具有由硬质合金、金属陶瓷、陶瓷、钢或高速钢制成的基体和在CVD工艺中施加至所述基体的单层或多层磨损防护涂层,其中所述磨损防护涂层具有至少一个Ti1‑xAlxCyNz层,其化学计量系数为0.70≤x<1、0≤y≤0.25和0.75≤z<1.15,其中所述Ti1‑xAlxCyNz层具有1μm至25μm范围内的厚度并具有结晶择优取向,所述结晶择优取向以结晶{111}平面和{200}平面的X射线衍射峰强度比来表征,其中I{111}/I{200}>1+h(In h)2,其中h是所述Ti1‑xAlxCyNz层的以μm计的厚度。
搜索关键词: 具有 cvd 涂层 工具
【主权项】:
1.一种用于制造工具的方法,所述工具具有硬质合金、金属陶瓷、陶瓷或钢的基体和在CVD工艺中施加至所述基体的单层或多层磨损防护涂层,其中所述磨损防护涂层具有至少一个Ti1‑xAlxCyNz层,其化学计量系数为0.70≤x<1、0≤y<0.25和0.75≤z<1.15且厚度在1μm至25μm范围内,其中为制造所述Ti1‑xAlxCyNz层a)将待涂覆的主体放置在圆柱形CVD反应器中,所述反应器为了相对于所述反应器的纵轴径向方向的在待用工艺气体涂覆的主体上的汇流而设计,b)提供两种前体气体混合物(VG1)和(VG2),其中第一前体气体混合物(VG1)含有0.005体积%至0.2体积%的TiCl4,0.025体积%至0.5体积%的AlCl3,和作为载气的氢气(H2)或氢气和氮气的混合物(H2,N2),并且第二前体气体混合物(VG2)含有0.1体积%至3.0体积%的选自氨气(NH3)和肼(N2H4)的至少一种N供体,和作为载气的氢气(H2)或氢气和氮气的混合物(H2,N2),并且所述第一前体气体混合物(VG1)和/或所述第二前体气体混合物(VG2)任选地含有选自乙腈(CH3CN)、乙烷(C6H6)、乙烯(C2H4)和乙炔(C2H2)及其混合物的C供体,其中所述前体气体混合物(VG1、VG2)中的N供体和C供体的总体积%比例在0.1体积%至3.0体积%的范围内,c)所述两种前体气体混合物(VG1、VG2)在通入反应区之前保持分开并且在所述CVD反应器中600℃至850℃范围内的工艺温度和CVD反应器中0.2kPa至18kPa范围内的工艺压力下以相对于所述反应器的纵轴基本上径向的方式引入,其中所述前体气体混合物(VG1、VG2)的体积气体流量(V)的比V(VG1)/V(VG2)小于1.5。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦尔特公开股份有限公司,未经瓦尔特公开股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480022401.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top