[发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201480018692.0 | 申请日： | 2014-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN105102667A | 公开（公告）日： | 2015-11-25 |
| 发明（设计）人： | 德永幸大;上林浩行;佐竹光;铃木基之 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;B32B9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;焦成美 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种气体阻隔性膜，所述气体阻隔性膜即使在弯曲时，气体阻隔性也不易降低，并呈现出高透明和高度的气体阻隔性。一种气体阻隔性膜，其为下述构成，即，在高分子膜基材的至少一侧具有至少含有氧化锌和二氧化硅的气体阻隔层，所述气体阻隔层满足规定范围的(9664.0eV的光谱强度)/(9668.0eV的光谱强度)的值、规定范围的结构密度指数、规定范围的在920cm-1具有峰的光谱的面积强度(A)与在1,080cm-1具有峰的光谱的面积强度(B)之比(A/B)的值中的任一项。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种气体阻隔性膜，在高分子膜基材的至少一侧具有至少含有氧化锌和二氧化硅的气体阻隔层，其中，所述气体阻隔层满足以下[I]～[III]中的任一项：[I]锌的K吸收端的X射线吸收近边结构(XANES)光谱中，(9664.0eV的光谱强度)/(9668.0eV的光谱强度)的值为0.910～1.000；[II]锌原子浓度除以硅原子浓度所得的比例为0.1～1.5，下式所表示的结构密度指数为1.20～1.40，结构密度指数＝(利用X射线反射率(XRR)法求出的气体阻隔层的密度)/(由利用X射线光电子能谱(XPS)法求出的组成比率计算出的理论密度)；[III]将利用FT－IR测定所测定的位于波数900～1,100cm‑1的峰分离成波数920cm‑1的峰和1,080cm‑1的峰时，在920cm‑1具有峰的光谱的面积强度(A)与在1,080cm‑1具有峰的光谱的面积强度(B)之比(A/B)的值为1.0以上且7.0以下。
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