专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]叠层体-CN201980066861.0在审
  • 德永幸大;佐藤诚;上林浩行 - 东丽株式会社
  • 2019-10-04 - 2021-05-25 - B32B9/00
  • 一种叠层体,其在基材的至少一侧具有A层,上述A层包含选自周期表的第IIA、IIIB、IVB、VB、IIB、IIIA和IVA族的元素中的至少2种元素、以及氧,上述A层表面的通过原子力显微镜(AFM)算出的算术平均粗糙度Ra为5.0nm以下。提供低成本并且即使为简单的构成也具有高度的阻气性的叠层体。
  • 叠层体
  • [发明专利]层叠体-CN201780045899.0有效
  • 上林浩行;德永幸大;佐藤诚 - 东丽株式会社
  • 2017-08-16 - 2021-03-09 - B32B9/00
  • 一种层叠体,特征在于,在温度23℃、湿度60%下保管48小时后的卷曲量为3mm以下,在高分子基材的至少一个面具有[A]层(厚度低于50nm、并且含有锌化合物的层)。本发明能够提供相对于水蒸气等具有高度阻气性、并具有卷曲减少的优异平面性的层叠体,可以用作例如,食品、药品等的包装材和薄型电视、太阳能电池等电子器件用零件。
  • 层叠
  • [发明专利]阻气性膜-CN201580004314.1有效
  • 上林浩行;佐竹光;德永幸大 - 东丽株式会社
  • 2015-01-20 - 2017-11-17 - B32B9/00
  • 本发明的目的在于提供具有高度的阻气性的阻气性膜。本发明的阻气膜在高分子基材的至少一面具有阻气层,所述阻气层从高分子基材起依次相接配置有包含氧化锌和二氧化硅的第1层与包含硅化合物的第2层,通过X射线光电子能谱法测定得到的第1层与第2层的界面的Si2p轨道的结合能大于第1层的Si2p轨道的结合能,并且小于第2层的Si2p轨道的结合能。
  • 气性
  • [发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法-CN201480018692.0有效
  • 德永幸大;上林浩行;佐竹光;铃木基之 - 东丽株式会社
  • 2014-03-28 - 2015-11-25 - C23C14/08
  • 本发明的课题在于提供一种气体阻隔性膜,所述气体阻隔性膜即使在弯曲时,气体阻隔性也不易降低,并呈现出高透明和高度的气体阻隔性。一种气体阻隔性膜,其为下述构成,即,在高分子膜基材的至少一侧具有至少含有氧化锌和二氧化硅的气体阻隔层,所述气体阻隔层满足规定范围的(9664.0eV的光谱强度)/(9668.0eV的光谱强度)的值、规定范围的结构密度指数、规定范围的在920cm-1具有峰的光谱的面积强度(A)与在1,080cm-1具有峰的光谱的面积强度(B)之比(A/B)的值中的任一项。
  • 气体阻隔及其制造方法

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