[实用新型]连接加热件和接触板的接触装置和具有该装置的加热设备有效
申请号: | 201420716860.0 | 申请日: | 2014-11-25 |
公开(公告)号: | CN204589299U | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | K.艾伦;P-A.博丁;O.费龙;P.S.劳弗;M.E.奥本 | 申请(专利权)人: | 艾克斯特朗欧洲公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 侯宇 |
地址: | 德国黑*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于电气和机械连接用来加热CVD反应器(1)的基座(5)的加热设备(6)的加热件(10)与供电元件(36)的装置,所述装置具有用于与所述加热件(10)相连的头部(12)、用于与接触件(36)相连的支脚(24)和布置在所述头部(12)与支脚(24)之间的杆部(21)。为了减小温度梯度建议,所述杆部(21)至少局部具有比所述头部(12)更小的横截面,从而使所述杆部(21)内的单位长度的电阻大于所述头部(1)内的单位长度的电阻。本实用新型还涉及一种用于加热CVD反应器的基座的加热设备,其加热件借助至少一个连接器与供电元件(36)相连。 | ||
搜索关键词: | 连接 加热 接触 装置 具有 设备 | ||
【主权项】:
一种用于电气和机械连接用来加热CVD反应器(1)的基座(5)的加热设备(6)的加热件(10)与供电元件(36)的装置,所述装置具有用于与所述加热件(10)相连的头部(12)、用于与接触件(36)相连的支脚(24)和布置在所述头部(12)与支脚(24)之间的杆部(21),其特征在于,所述杆部(21)至少局部具有比所述头部(12)更小的横截面,从而使所述杆部(21)内的单位长度的电阻大于所述头部(1)内的单位长度的电阻。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的