[实用新型]连接加热件和接触板的接触装置和具有该装置的加热设备有效
申请号: | 201420716860.0 | 申请日: | 2014-11-25 |
公开(公告)号: | CN204589299U | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | K.艾伦;P-A.博丁;O.费龙;P.S.劳弗;M.E.奥本 | 申请(专利权)人: | 艾克斯特朗欧洲公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 侯宇 |
地址: | 德国黑*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 连接 加热 接触 装置 具有 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种用于电气或机械连接用来加热CVD(化学气相沉积)反应器的基座的加热设备的加热件与供电元件的装置,所述装置具有用于与所述加热件相连的头部、用于与接触件相连的支脚和布置在所述头部与支脚之间的杆部。
本实用新型还涉及一种用于加热CVD反应器的基座的加热设备,所述加热设备的加热件借助至少一个连接器与供电元件相连接。
背景技术
由文献US 4,292,504、US 5,759,281或US 7,645,342已知一种用于连接加热设备的加热件的连接器,所述加热设备用于加热CVD反应器的基座。
由文献US 2,625,635已知一种发卡形加热器,借此加热水。在保护管内,螺旋形的加热丝嵌入地在隔离体内延伸,该加热丝通过具有螺纹的接触销与终端触点相连。终端触点具有螺纹,螺母旋紧在该螺纹上,以便对环形的连接接触件锁止。终端触点的邻接在螺纹段上的部段具有压花部和展平部,以便在浇铸体内阻止转动地锁止。
CVD反应器具有反应器壳体、布置在反应器壳体内的进气机构,利用所述进气机构将处理气体导入处理室中。处理室具有基座,待涂覆的基板放置在基座上。为了使基板达到涂覆温度,借助热辐射自下对基座加热。为了产生热辐射而使用根据本实用新型的加热设备。根据本实用新型的加热设备具有供电元件、例如接触板形式的供电元件,连接器从接触板上伸出。每个连接器与至少一个加热件相连。各加热件的两端通过连接器与两个不同的供电元件相连,从而能通过供电元件使电流导通经过加热件。在此,加热件发热,并且将其热量以热辐射的形式向基座输送。在此,加热件一直加热至白炽。极度耐高温的加热件由钨丝构成。连接器同样也可以由钨制成,然而也可以由不锈钢或钼制成。因为连接器具有比加热件明显更大的直径,所以连 接器具有比加热件明显更低的单位长度的欧姆电阻。这使得在加热件与连接器的头部的连接位置上出现极高的温度差(温度梯度)。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于,提供一种用于降低所述温度差的措施。
所述技术问题通过一种按照本实用新型的用于电气或机械连接用来加热CVD反应器的基座的加热设备的加热件与供电元件的装置解决,所述装置具有用于与所述加热件相连的头部、用于与接触件相连的支脚和布置在所述头部与支脚之间的杆部,其中,所述杆部至少局部具有比所述头部更小的横截面,从而使所述杆部内的单位长度的电阻大于所述头部内的单位长度的电阻。所述技术问题还通过另一种按照本实用新型的用于电气或机械连接用来加热CVD反应器的基座的加热设备的加热件与供电元件的装置解决,其中,所述头部构成接触件,由螺旋线圈构成的加热件借助所述接触件能够与所述头部机械和电气连接。所述技术问题还通过另一种按照本实用新型的用于电气或机械连接用来加热CVD反应器的基座的加热设备的加热件与供电元件的装置解决,其中,所述支脚具有截锥部段,所述截锥部段通过其截锥端部过渡至外螺纹部段。所述技术问题还通过一种按照本实用新型的用于加热CVD反应器的基座的加热设备解决,所述加热设备具有供电元件和至少一个加热件,其中,所述加热件借助前述类型的连接装置与所述供电元件相连接。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的