[实用新型]一种全自动湿法擦片机

摘要

本实用新型提供一种全自动湿法擦片机，包括PLC控制系统、工作台、机械臂、转盘、滑轨、滚刷、硅片载槽和喷淋头，在工作台上设有转盘和硅片载槽，在工作台上位于转盘和硅片载槽之间设有机械臂，在转盘的上方设有滑轨，在滑轨上放有滚刷，在转盘的两侧设有喷淋头，喷淋头与供水系统相连，在转盘的下方设有吸盘，PLC控制系统分别与所述机械臂、转盘、滚刷和供水系统相连。通过机械臂代替人工取、放硅片的操作，并采用湿法操作，擦片力度更均匀，使生产产品具有高效、高质的优点，从而使硅片的表面清洁更加容易，大大提高了产品的合格率；具有设计合理、结构简单、操作方便、没有冗余的加工环节等优点。

主权项

一种全自动湿法擦片机，其特征在于：包括PLC控制系统、工作台、机械臂、转盘、滑轨、滚刷、硅片载槽和喷淋头，在所述工作台上设有所述转盘和硅片载槽，在所述工作台上位于所述转盘和硅片载槽之间设有所述机械臂，在所述转盘的上方设有所述滑轨，在所述滑轨上放有所述滚刷，在所述转盘的两侧设有所述喷淋头，所述喷淋头与供水系统相连，在所述转盘的下方设有吸盘，所述PLC控制系统分别与所述机械臂、转盘、滚刷和供水系统相连。