[实用新型]一种附加振动低压化学气相沉积装置有效
申请号: | 201420654602.4 | 申请日: | 2014-11-05 |
公开(公告)号: | CN204251706U | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 郑建毅;杨群峰;林俊清;林俊辉;郑高峰 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 | 代理人: | 巫丽青 |
地址: | 361000 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种低压化学气相沉积装置,本实用新型的一种附加振动低压化学气相沉积装置,上端盖、进气法兰、筒体、排气法兰密封连接,排气法兰、下端盖密封成真空腔体,筒体周围套设有加热架,加热架内设有加热丝,上端盖上通过进气管路与一供气装置连通,排气法兰通过抽气管与一机械泵连通,机械泵上还设有排气管,真空腔体内竖直设有多根固定杆,固定杆上水平设有一弹簧板,弹簧板上设有一工作台,工作台上设有一收集板,工作台底部连接设有一连接孔,下端盖下方设有一激振器,激振器输出端连接配合以传输杆,传输杆穿透下端盖后伸入工作台底部的连接孔内,并分别与下端盖和工作台固定连接。本实用新型能够达到低能耗、低耗时、低应力的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 附加 振动 低压 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种附加振动低压化学气相沉积装置,其特征在于:包括由上端盖、进气法兰、筒体、排气法兰和下端盖构成的真空腔体,所述上端盖与进气法兰顶部密封连接,所述进气法兰底部与筒体顶部密封连接,所述筒体底部与排气法兰密封连接,所述排气法兰底部与下端盖密封固定连接,所述筒体周围套设有加热架,所述加热架内设有加热丝,所述上端盖上通过进气管路与一供气装置连通,所述排气法兰通过抽气管与一机械泵连通,所述机械泵上还设有排气管,所述真空腔体内竖直设有多根固定杆,所述固定杆上水平设有一弹簧板,所述弹簧板上设有一工作台,所述工作台上设有一收集板,所述工作台底部连接设有一连接孔,所述下端盖下方设有一激振器,所述激振器输出端连接配合以传输杆,所述传输杆穿透所述下端盖后伸入工作台底部的连接孔内,并分别与下端盖和工作台固定连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的