[实用新型]具有吸光层的感光层结构有效
| 申请号： | 201420211906.3 | 申请日： | 2014-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN203882091U | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 吴钟达 | 申请（专利权）人： | 吴钟达 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;H01L21/027;G03G5/147 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人： | 史霞 |
| 地址： | 中国台湾台北市大安区*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种感光层结构，包括一光刻胶层及至少一吸光层，吸光层涂布在光刻胶层的顶部与底面的至少其中之一，吸光层能够吸收部份特定波长的曝光光线。本实用新型的有益效果是，能够解决光刻工艺精度控制的问题，并有效提升光刻工艺的精度与宽容度。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 吸光层 感光 结构 | ||
【主权项】：
一种感光层结构，其特征在于，包括：一光刻胶层；及至少一吸光层，该吸光层涂布在该光刻胶层的顶部与底面的至少其中之一；其中，该吸光层能够吸收部份特定波长的曝光光线。
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