[实用新型]用于原子层薄膜沉积的反应装置

摘要

本实用新型提供一种用于原子层薄膜沉积的反应装置，属太阳能电池制造装配和加工技术领域，包括依次连接的反应沉积腔、反应排空腔和真空系统；所述反应沉积腔内包括硅片承载单元、加热单元、前驱物进料单元、吹扫气体进气单元；本实用新型通过将至少两种气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应，从而形成沉积膜。本实用新型有效弥补了现有反应装置中产能低、气态反应前驱物在硅片表面分布不均、硅片表面存在温度梯度及气态反应前驱物无法排空等缺陷，大幅提升原子层薄膜沉积装置的硅片产能和沉积速率并有效提高原子层薄膜的沉积质量。

主权项

一种用于原子层薄膜沉积的反应装置，其特征在于，包括：反应沉积腔、反应排空腔和真空系统；所述的反应沉积腔设有菱形中空腔并与所述反应排空腔贯通，所述反应排空腔与所述真空系统连接，所述真空系统用于对所述反应排空腔进行抽气，进而使所述反应沉积腔处于真空状态；其中，所述反应沉积腔内包括硅片承载单元、加热单元、前驱物进料单元、吹扫气体进气单元；所述硅片承载单元设有若干个硅片承载位且所述硅片承载单元的底部设有若干通气孔，所述硅片承载单元上设有遮挡罩用于密封所述反应沉积腔；所述加热单元设在所述反应沉积腔的四个腔壁外侧，用于对所述反应沉积腔进行加热；所述前驱物进料单元用于对所述硅片承载单元上的硅片提供气态反应前驱物或对所述反应沉积腔内的气态反应前驱物进行吹扫；所述吹扫气体进气单元用于对所述反应沉积腔与所述硅片承载单元间隙中的气态反应前驱物进行吹扫。