[发明专利]一种组合物在阻挡层抛光中的应用有效
| 申请号： | 201410856259.6 | 申请日： | 2014-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN105802509B | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 王晨;何华锋;周文婷;周仁杰;李星 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/3105;H01L21/321;C23F3/06 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明旨在提供一种组合物在阻挡层抛光中的应用，其中，该组合物被加入化学机械抛光液中，且化学机械抛光液中包括硅溶胶，该组合物为四甲基氢氧化铵与烷基苯磺酸类化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 组合 阻挡 抛光 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.一种组合物在阻挡层抛光中的应用，其中，所述组合物被加入化学机械抛光液中，且所述化学机械抛光液中包括硅溶胶，其特征在于，所述阻挡层为钽或氮化钛，所述组合物为四甲基氢氧化铵与烷基苯磺酸类化合物，所述化学机械抛光液还包括低介电材料速度抑制剂，络合剂、腐蚀抑制剂、氧化剂，所述化学机械抛光液为酸性，所述络合剂为有机磷酸及其盐，所述腐蚀抑制剂为唑类化合物，所述氧化剂为双氧水。
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