[发明专利]一种薄膜晶体管、陈列基板及显示装置在审

专利信息
申请号: 201410853562.0 申请日: 2014-12-30
公开(公告)号: CN104576755A 公开(公告)日: 2015-04-29
发明(设计)人: 唐岳军 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/423;H01L29/417;H01L27/02
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种薄膜晶体管,包括栅极、第一及第二源极、第一及第二漏极、第一及第二半导体层、及第一及第二绝缘层,栅极包括相对设置的第一及第二表面,第一绝缘层形成于第一表面上,并覆盖第一表面,第一半导体层形成于第一绝缘层上,第一漏极及第一源极间隔地形成在第一半导体层上,第二绝缘层形成于第二表面上,并覆盖第二表面,第二半导体层形成于所述第二绝缘层上,第二漏极及第二源极间隔地形成在第二半导体层上。本发明提高了应用薄膜晶体管的显示装置的开口率。本发明还提供了阵列基板及显示装置。
搜索关键词: 一种 薄膜晶体管 陈列 显示装置
【主权项】:
一种薄膜晶体管,包括栅极、第一源极、第二源极、第一漏极、第二漏极、第一半导体层、第二半导体层、第一绝缘层及第二绝缘层,所述栅极包括相对设置的第一表面及第二表面,所述第一绝缘层形成于所述第一表面上,并覆盖所述第一表面,所述第一半导体层形成于所述第一绝缘层上,所述第一漏极及所述第一源极间隔地形成在所述第一半导体层上,所述第二绝缘层形成于所述第二表面上,并覆盖所述第二表面,所述第二半导体层形成于所述第二绝缘层上,所述第二漏极及所述第二源极间隔地形成在所述第二半导体层上。
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