[发明专利]屏蔽装置及具有该屏蔽装置的等离子体处理装置

摘要

本发明公开了一种选择性地阻止至少部分带电粒子通过的屏蔽装置，包括屏蔽板，其包括实体部以及多个竖直的贯通孔；磁场产生元件，嵌设于所述实体部内，用以在每一所述贯通孔中形成与该贯通孔方向垂直的磁场，以使所述等离子体的至少部分带电粒子在所述磁场中受洛伦兹力发生偏转而与所述贯通孔的侧壁碰撞。本发明还提供了一种具有上述屏蔽装置的等离子体处理装置。本发明能够减小高能离子到达基片表面对其造成损伤。

主权项

一种屏蔽装置，应用于等离子体处理装置，用于从等离子体中选择性地阻止至少部分带电粒子通过，所述等离子体处理装置包括反应腔室，所述反应腔室容纳用于夹持待处理基片的基座，其特征在于，所述屏蔽装置包括：屏蔽板，设置于所述反应腔室内所述基座的上方，其包括一个实体部以及形成于所述实体部中的多个竖直的贯通孔；磁场产生元件，嵌设于所述实体部内，用以在每一所述贯通孔中形成与该贯通孔方向垂直的磁场，以使所述等离子体的至少部分带电粒子在所述磁场中受水平方向的洛伦兹力发生偏转而与所述贯通孔的侧壁碰撞；其中所述磁场产生元件为多个水平嵌设于所述实体部内的直螺线管，每一所述直螺线管上其中一个动点旋转一周所形成的空间内容纳一个所述贯通孔，每一所述直螺线管中通入电流以形成所述磁场。