[发明专利]一种薄膜太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410835909.9 申请日: 2014-12-29
公开(公告)号: CN104538497A 公开(公告)日: 2015-04-22
发明(设计)人: 黄添懋;杨晓杰;刘凤全;叶继春 申请(专利权)人: 苏州强明光电有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 李敏
地址: 215614 江苏省苏州市张家港市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明所述的一种薄膜太阳能电池的制备方法,包括如下步骤:S1、在GaAs衬底的上表面依次形成牺牲层、GaAs层和第一电极层;S2、在第一电极层远离GaAs层的表面上形成掩膜层;S3、通过刻蚀工艺对第一电极层和GaAs层进行图案化;S4、除去掩膜层,在第一电极层远离GaAs层的表面上形成支撑层;S5、除去牺牲层。以外延片剥离技术为基础,先对GaAs层进行图案化,将图案化后的GaAs层负载至支撑层上之后再进行GaAs层的剥离。以第一金属层与牺牲层为依托,增加了刻蚀过程中GaAs层的强度,不但有效避免了GaAs层在图案化过程中的损伤,提高了产品良率,降低了生产成本;而且,可以将GaAs层刻蚀为各种形状,扩大了所述薄膜太阳能电池的产品设计范围和应用范围。
搜索关键词: 一种 薄膜 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、在GaAs衬底的上表面依次形成牺牲层、GaAs层和第一电极层;S2、在第一电极层远离GaAs层的表面上形成掩膜层;S3、通过刻蚀工艺对GaAs层和第一电极层进行图案化;S4、除去掩膜层,在第一电极层远离GaAs层的表面上形成支撑层;S5、除去牺牲层。
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