[发明专利]包含硅通孔的高可靠性影像传感器封装有效

专利信息
申请号: 201410677096.5 申请日: 2014-11-23
公开(公告)号: CN104393009A 公开(公告)日: 2015-03-04
发明(设计)人: 秦飞;武伟;安彤;肖智轶 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 刘萍
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种包含硅通孔的高可靠性影像传感器封装,属于影像传感器封装领域。所述封装结构包括:1.玻璃;2.晶圆,在晶圆正面制作有影像传感区和焊盘;3.通过在玻璃正面制作一层支撑墙,将玻璃同晶圆键合在一起;4.通过在晶圆背面制作硅通孔,将焊盘暴露出来,以使焊盘同后续的再分布层之间实现导通;5.在硅通孔孔内和晶圆背面依次制作钝化层、金属层、防焊层,通过上述结构组成的再分布层,将焊盘与焊球实现导通。本发明通过将硅通孔延伸到玻璃正面,使金属层与焊盘的侧面进行连接,增强了金属层与焊盘之间连接的稳定性,从而提高了结构的可靠性。另外,由于选用了干膜作为支撑墙的材料,减少了工艺步,节约了生产成本。
搜索关键词: 包含 硅通孔 可靠性 影像 传感器 封装
【主权项】:
一种包含硅通孔的高可靠性影像传感器封装结构,其特征包括: 提供晶圆,其中在晶圆正面具有多个芯片区,芯片区包括位于中央的影像传感区和四周边缘的若干个焊盘; 玻璃,将玻璃正面覆盖在晶圆上,其中在玻璃正面制作有支撑墙; 硅通孔,所述硅通孔穿过晶圆、焊盘和支撑墙一直延伸到玻璃正面,并且将晶圆正面的焊盘暴露出来; 晶圆背面的再分布层结构,所述再分布层由钝化层、金属层和防焊层组成,通过制作再分布层,将晶圆正面的焊盘导通到晶圆背面预设焊球的位置。 
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