[发明专利]一种可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201410631985.8 申请日: 2014-11-10
公开(公告)号: CN104383820A 公开(公告)日: 2015-03-04
发明(设计)人: 洪孝挺;周育妹;曾志;李敏 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: B01D71/34 分类号: B01D71/34;B01D69/02;B01D67/00;B01J31/38;B01J35/02
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 黄磊
地址: 510006 广东省广州市番*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于改性超滤膜制备技术领域,公开了一种可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜及其制备方法。所述制备方法步骤如下:先通过原位沉积法将Ag3PO4纳米颗粒沉积到TiO2表面,得到Ag3PO4/TiO2复合物;然后将聚偏氟乙烯粉末、致孔剂及所述Ag3PO4/TiO2复合物溶于有机溶剂中,混合搅拌使分散均匀,再减压脱泡处理,得到铸膜液;最后将所述铸膜液流延于洁净玻璃板上,使用刮刀刮膜,于空气中静置后浸入凝固浴中,得到所述可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜产品。所述可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜具有亲水、抗菌防污双重性能,能减轻水处理时聚偏氟乙烯膜表面的受污情况,且有效抑制细菌和微生物在膜表面的生长繁殖。
搜索关键词: 一种 可见光 响应 抗菌 防污 聚偏氟 乙烯 及其 制备 方法
【主权项】:
一种可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)制备Ag3PO4/TiO2复合物:通过原位沉积法将Ag3PO4纳米颗粒沉积到TiO2表面,得到Ag3PO4/TiO2复合物;(2)制备聚偏氟乙烯铸膜液:将聚偏氟乙烯粉末、致孔剂及所述Ag3PO4/TiO2复合物溶于有机溶剂中,混合搅拌使分散均匀,再减压脱泡处理,得到铸膜液;(3)成膜处理:将所述铸膜液流延于洁净玻璃板上,使用刮刀刮膜,于空气中静置后浸入凝固浴中,得到改性后的聚偏氟乙烯膜产品,即为所述可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜。
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