[发明专利]一种可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜及其制备方法

权利要求书

1.一种可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)制备Ag₃PO₄/TiO₂复合物：通过原位沉积法将Ag₃PO₄纳米颗粒沉积到TiO₂表面，得到Ag₃PO₄/TiO₂复合物；

(2)制备聚偏氟乙烯铸膜液：将聚偏氟乙烯粉末、致孔剂及所述Ag₃PO₄/TiO₂复合物溶于有机溶剂中，混合搅拌使分散均匀，再减压脱泡处理，得到铸膜液；

(3)成膜处理：将所述铸膜液流延于洁净玻璃板上，使用刮刀刮膜，于空气中静置后浸入凝固浴中，得到改性后的聚偏氟乙烯膜产品，即为所述可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜。

2.根据权利要求1所述的可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于：步骤(1)所述Ag₃PO₄/TiO₂复合物中Ag₃PO₄与TiO₂的摩尔比为2:10～4:10。

3.根据权利要求1或2所述的可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于：所述Ag₃PO₄/TiO₂复合物由以下操作制备：将1～1.56g TiO₂分散于50ml的去离子水中，超声5～20min后，加入2～4g AgNO₃，机械搅拌10～20min，得到TiO₂与AgNO₃的混合液；将1.5～3g Na₃PO₄·12H₂O溶于50ml去离子水中得到磷酸钠溶液，然后将磷酸钠溶液逐滴加入所述TiO₂与AgNO₃的混合液中；滴加结束后，继续搅拌5～10h，抽滤并洗涤，最后在60℃烘干，得到所述Ag₃PO₄/TiO₂复合物，置于暗处存放备用。

4.根据权利要求1所述的可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)所述聚偏氟乙烯粉末、致孔剂及所述Ag₃PO₄/TiO₂复合物的质量比比为(15～20)：(1～3)：(0.1～3)；在所述铸膜液中聚偏氟乙烯的质量分数为15～20％。

5.根据权利要求1所述的可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)所述致孔剂为聚乙二醇200、聚乙二醇400和聚乙烯基吡咯烷酮中的一种或一种以上混合；所述有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺或N-甲基吡咯烷酮中的一种或一种以上混合。

6.根据权利要求1所述的可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)所述混合搅拌的条件为：温度60～80℃，搅拌时间12～24h；步骤(2)所述减压脱泡处理的真空度为0.05Pa，处理时间为8～16h。

7.根据权利要求1所述的可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于：步骤(3)所述刮刀的厚度为200～300μm。

8.根据权利要求1所述的可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于：步骤(3)所述空气中静置的时间为10～30s。

9.根据权利要求1所述的可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于：步骤(3)所述凝固浴的温度为15～30℃；所述凝固浴为去离子水。

10.一种根据权利要求1～9任一项所述的可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜的制备方法制备得到的可见光响应抗菌防污聚偏氟乙烯膜。