[发明专利]焦平面探测器相连缺陷元的识别方法与测试基片

摘要

本发明涉及焦平面探测器相连缺陷元的识别方法与测试基片，本发明提出的相连缺陷元识别方法，将基片处理为一种特殊的具备两种透光率的基片，即在同一基片上，形成具有两种透光率的区域。对于正常元，其响应电压与光敏元所对准的透光率区域对应；对于相连缺陷元，其响应电压是正常元响应电压的平均值(求和求平均)；从而识别相邻缺陷元。方法简单易行，效果明显，具有较大的实际应用价值。

主权项

焦平面探测器相连缺陷元的识别方法，其特征在于，在基片上形成两种透光率的区域，两种透光率的区域间隔设置；将基片安装在面阵探测器前面；用焦平面探测器测试系统进行测试，得到响应电压数据以识别相连缺陷元。