[发明专利]一种沉积膜的装置在审
| 申请号： | 201410507630.8 | 申请日： | 2014-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN105525271A | 公开（公告）日： | 2016-04-27 |
| 发明（设计）人： | 林朝晖 | 申请（专利权）人： | 福建省辉锐材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362000 福建省泉*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开一种沉积膜的装置，所述装置包括：处理管，所述处理管包括第一反应空间和第二反应空间，第二反应空间与第一反应空间由隔离部隔开使气体不相导通，每一反应空间中均放置有基底；加热源，所述加热源包括加热元件，所述加热元件形成了中空加热空间，所述处理管穿过所述加热空间；导轨，所述加热源由所述导轨支撑，从而沿着导轨的纵向轴线滑动，在第一反应空间及第二反应空间转换加热；至少一反应气体管，所述反应气体管可引入第一反应气体流入第一反应空间，并引入第二反应气体流入到第二反应空间；及至少一排气管，所述排气管从所述第一反应空间和从所述第二反应空间排出气体。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种沉积膜的装置，其特征在于，所述装置包括：处理管，所述处理管包括第一反应空间和第二反应空间，第二反应空间与第一反应空间由隔离部隔开使气体不相导通，每一反应空间中均放置有基底；加热源，所述加热源包括加热元件，所述加热元件形成了中空加热空间，所述处理管穿过所述加热空间；导轨，所述加热源由所述导轨支撑，从而沿着导轨的纵向轴线滑动，在第一反应空间及第二反应空间转换加热；至少一反应气体管，所述反应气体管可引入第一反应气体流入第一反应空间，并引入第二反应气体流入到第二反应空间；及至少一排气管，所述排气管从所述第一反应空间和从所述第二反应空间排出气体。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
