[发明专利]一种高功率低偏振度的800nm波段SLD外延结构有效
申请号: | 201410503050.1 | 申请日: | 2014-09-25 |
公开(公告)号: | CN104362225B | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 周勇;唐祖荣;段利华;刘万清;刘尚军 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/06;H01L33/30 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙)11316 | 代理人: | 刘佳 |
地址: | 400060 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明提供一种高功率低偏振度的800nm波段SLD外延结构,包括在N型衬底11上顺序层叠的N型缓冲层12、N型下包层13、下渐变层14、有源层15、上渐变层16、P型上包层17和P型接触层18,所述有源层15的材料为GaAs(1‑x)Px,其中所述x为材料磷组分,且0.01≤x≤0.08。本发明提供的高功率低偏振度的800nm波段SLD外延结构中,采用GaAsP作为量子阱结构的阱层材料,通过调整阱层的组分来调整应变量和发光波长,从而达到低偏振度光输出的要求,且发光波长恰好处于800nm波段;同时,量子阱结构的采用可以提高SLD的输出功率。 | ||
搜索关键词: | 一种 功率 偏振 800 nm 波段 sld 外延 结构 | ||
【主权项】:
一种高功率低偏振度的800nm波段SLD外延结构,其特征在于,包括在N型衬底上顺序层叠的N型缓冲层、N型下包层、下渐变层、有源层、上渐变层、P型上包层和P型接触层,所述有源层的材料为GaAs(1‑x)Px,其中所述x为材料磷组分,且0.01≤x≤0.08;采用GaAsP作为量子阱结构的阱层材料,通过调整阱层的组分来调整应变量和发光波长,使TE模和TM模的光强相等,从而达到低偏振度光输出的要求,且发光波长恰好处于800nm波段。
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