[发明专利]一种全介质反射膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201410480020.3 | 申请日： | 2014-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN104237985A | 公开（公告）日： | 2014-12-24 |
| 发明（设计）人： | 刘爽;陈逢彬;陈静;李尧;熊流峰;张尚剑;刘永;钟智勇 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G02B1/10;C23C16/24 |
| 代理公司： | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 | 代理人： | 李玉兴 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制作工艺连续、制作成本较低且便于制作的全介质反射膜及其制备方法。本发明所述的全介质反射膜采用密度为2.15-2.32g/cm3的非晶硅薄膜制作成高折射率膜层，采用密度为1.90-2.10g/cm3的非晶硅薄膜制作成低折射率膜层，高折射率膜层和低折射率膜层都是采用非晶硅薄膜，非晶硅薄膜只需通过交替改变PECVD沉积过程中的反应条件，即可得到密度不同的非晶硅薄膜，该反射膜在结构上只采用了非晶硅作为膜层材料，具有工艺连续、一次成膜的优点，同时，当前成熟的非晶硅薄膜生产工艺使得该种反射膜得以低成本、大面积制备，具有很强的实用意义。适合在光器件领域推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 介质 反射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种全介质反射膜，包括基底(1)以及多层高折射率膜层(2)，所述多层高折射率膜层(2)依次层叠的设置在基底(1)的上表面，所述相邻的两层高折射率膜层(2)之间设置有一层低折射率膜层(3)，其特征在于：所述高折射率膜层(2)是密度为2.15‑2.32g/cm3的非晶硅薄膜，所述低折射率膜层(3)是密度为1.90‑2.10g/cm3的非晶硅薄膜。
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