[发明专利]检测半导体衬底出现阶梯演变异常的方法在审
| 申请号： | 201410443373.6 | 申请日： | 2014-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN104198495A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 何理;许向辉 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种检测半导体衬底出现阶梯演变异常的方法，包括：获得标准的半导体衬底的数字化特征值；将所述标准的半导体衬底的数字化特征值存储至缺陷扫描机台，并设置最大允许偏差值；利用缺陷扫描机台对待检测的半导体衬底中的待检测的半导体芯片的特征值与所述数字化特征值进行比较，若所述待检测半导体芯片的特征值与所述数字化特征值之间的差异超过所述最大允许偏差值，则认为所述待检测半导体芯片出现异常。本发明能够检测半导体衬底出现阶梯演变异常的缺陷，并且不会影响正常的缺陷扫描程序。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 半导体 衬底 出现 阶梯 演变 异常 方法 | ||
【主权项】：
一种检测半导体衬底出现阶梯演变异常的方法，其特征在于，包括：获得标准的半导体衬底的数字化特征值；将所述标准的半导体衬底的数字化特征值存储至缺陷扫描机台，并设置最大允许偏差值；利用缺陷扫描机台对待检测的半导体衬底中的待检测的半导体芯片的特征值与所述数字化特征值进行比较，若所述待检测半导体芯片的特征值与所述数字化特征值之间的差异超过所述最大允许偏差值，则认为所述待检测半导体芯片出现异常。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司;，未经上海华力微电子有限公司;许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410443373.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：屏蔽射线用的快门装置及射线扫描成像系统
- 下一篇：一种装样杯清洗效果检验方法
