[发明专利]一种利于稳定转化率的反应装置有效
申请号: | 201410398217.2 | 申请日: | 2014-08-13 |
公开(公告)号: | CN104178746A | 公开(公告)日: | 2014-12-03 |
发明(设计)人: | 赵红军;刘鹏;魏武;张俊业;毕绿燕;童玉珍;张国义 | 申请(专利权)人: | 东莞市中镓半导体科技有限公司;北京大学 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/455 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 523518 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种涉及气态反应物(简称第一前驱物)和固态或液态反应物(简称第二前驱物)参与反应的反应装置,特殊的导流管和挡板结构,有利于反应物的充分接触,有效解决了第一前驱物利用率不高,第二前驱物消耗对第一前驱物转化率影响大等问题。高转化率有利于降低生产成本,稳定的反应率有利于降低工艺难度。 | ||
搜索关键词: | 一种 利于 稳定 转化 反应 装置 | ||
【主权项】:
一种利于稳定转化率的反应装置,其特征在于,包括导流管和挡板结构,所述导流管侧壁上分布有内外连通口;所述挡板,将反应装置分隔为缓慢流动区和快速流动区,并在快速流动区与每一个缓慢流动区之间形成一个狭小通道,狭小通道流出方向(靠快速流动区方向)在装置出口通道的圆周方向。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的