[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够使冲洗液恰好飞散到清洗对象位置，抑制装置的大型化，并且能够在批处理的途中执行杯清洗。特殊模式具有第2冲洗处理，在第2冲洗处理中，在与通常模式的第1冲洗处理不同的动作条件下，一边由旋转卡盘保持基板并使基板旋转，一边向基板供给冲洗液，来利用从旋转的基板飞散的冲洗液对处理杯进行清洗。由于在特殊模式中基板被保持在旋转卡盘上，所以从基板飞散的冲洗液难以碰到卡盘部件。此外，在特殊模式下，没有必要设置用于杯清洗的专用机构。此外，特殊模式是只要在腔室内存在基板就能够执行的模式，即使是在批处理的途中也能执行。

主权项

一种基板处理装置，对属于同一批量的多个基板依次进行处理，其特征在于，具有：处理装置主体，具有基板保持单元、旋转驱动单元、药液供给单元、冲洗液供给单元和杯，所述基板保持单元保持所述基板，所述旋转驱动单元使所述基板保持单元旋转，所述药液供给单元向保持于所述基板保持单元上的所述基板供给药液，所述冲洗液供给单元向保持于所述基板保持单元上的所述基板供给冲洗液，所述杯包围所述基板保持单元的周围，控制单元，预先设定有多种基板处理模式，对所述处理装置主体进行控制，来针对各基板选择执行多种所述模式中的一种模式，传感器，对在基板处理中产生障碍原因进行检测，多种所述模式具有：通常模式，在通过所述传感器未检测到产生所述障碍原因的情况下，对第1基板执行所述通常模式，该第1基板是属于所述批量的一个基板，所述通常模式具有第1药液处理和第1冲洗处理，在所述第1药液处理中，一边通过所述基板保持单元保持所述第1基板并使所述第1基板旋转，一边向所述第1基板供给药液，来对所述第1基板进行药液处理，在所述第1冲洗处理中，一边通过所述基板保持单元保持所述第1基板并使所述第1基板旋转，一边向所述第1基板供给冲洗液，来从所述第1基板冲洗掉所述药液，特殊模式，在通过所述传感器检测到产生所述障碍原因的情况下，对第2基板执行所述特殊模式，该第2基板是属于所述批量的一个基板，且在检测到产生所述障碍原因的时间点之后成为处理对象，所述特殊模式具有第2药液处理和第2冲洗处理，在所述第2药液处理中，在与所述第1药液处理对应的动作条件下向所述第2基板供给药液，对所述第2基板进行药液处理，在所述第2冲洗处理中，执行使所述杯上下移动来调节从所述第2基板飞散的冲洗液与所述杯相碰撞的位置的位置调节子处理、对所述第2基板的旋转速度进行可变调节的速度调节子处理、对向所述第二基板供给的所述冲洗液的供给量进行可变调节的供给量调节子处理中的至少一个，在与所述第1冲洗处理不同的动作条件下，一边通过所述基板保持单元保持所述第2基板并使所述第2基板旋转，一边向所述第2基板供给冲洗液，来从所述第2基板冲洗掉所述药液，并利用从旋转的所述第2基板飞散的所述冲洗液对所述杯进行清洗。