[发明专利]一种石墨烯量子点薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种石墨烯量子点（GQDs）薄膜的制备方法，具体步骤如下：以改进的Hummers法制备氧化石墨；将氧化石墨分散在分散剂中，用微波辅助溶剂热法制备石墨烯量子点；将石墨烯量子点溶液滴至衬底上，旋涂制得石墨烯量子点薄膜。本发明原料便宜，设备简单，操作方便；且所得的石墨烯量子点溶解性好，尺寸均匀，石墨烯量子点薄膜厚度均一，导电性能好，在太阳能电池应用方面前景可观。

主权项

一种石墨烯量子点薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：a）将氧化石墨加入到一定量分散剂中，移至内衬为聚四氟乙烯的微波水热反应釜（50 mL）中，密封后置于微波辅助水热合成仪中，微波功率为400 W，200‑240 ℃下反应90 min,待温度降至室温，取出反应釜，过滤所得滤液为石墨烯量子点在分散剂中的分散液，旋转蒸发除去分散剂，干燥后即得粉末状石墨烯量子点；b）将石墨烯量子点溶于蒸馏水中，配制成溶液，将溶液滴加到蒸有基层薄膜PEDOT:PSS（2）的衬底（3）上，在匀胶机上旋涂初步得到GQDs薄膜,将旋涂好的薄膜置于鼓风干燥箱中烘干固化，即得最后的GQDs薄膜（1）。