[发明专利]一种石墨烯量子点薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410362988.6 申请日: 2014-07-28
公开(公告)号: CN104291321A 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 王丽娟;邹凤君;都昊;李一平 申请(专利权)人: 长春工业大学
主分类号: C01B31/04 分类号: C01B31/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 量子 薄膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种石墨烯量子点薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

a)将氧化石墨加入到一定量分散剂中,移至内衬为聚四氟乙烯的微波水热反应釜(50 mL)中,密封后置于微波辅助水热合成仪中,微波功率为400 W,200-240 ℃下反应90 min,待温度降至室温,取出反应釜,过滤所得滤液为石墨烯量子点在分散剂中的分散液,旋转蒸发除去分散剂,干燥后即得粉末状石墨烯量子点;

b)将石墨烯量子点溶于蒸馏水中,配制成溶液,将溶液滴加到蒸有基层薄膜PEDOT:PSS(2)的衬底(3)上,在匀胶机上旋涂初步得到GQDs薄膜,将旋涂好的薄膜置于鼓风干燥箱中烘干固化,即得最后的GQDs薄膜(1)。

2.根据权利要求1所述的分散剂为二甲基亚砜(DMSO)、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、乙二醇或丙三醇中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的石墨烯量子点溶液的浓度为0.5%-3%。

4.根据权利要求1所述的旋涂速率为1000-3000 r/min,旋涂时间为10 s-30s。

5.根据权利要求1所述的衬底为Si衬底,ITO衬底或玻璃衬底。

6.根据权利要求1所述的氧化石墨是以改进的Hummers法制备的;具体步骤为:取2 g石墨粉和2 g硝酸锂于烧杯中,冰浴条件下加入100 mL 98%的浓硫酸,缓慢加入12 g的高锰酸钾,在不同温度下搅拌反应一段时间,溶液变为棕色,加入400 mL蒸馏水稀释,缓慢加入适量30%的双氧水,得到亮黄色溶液(GO),趁热过滤,滤饼用NaOH溶液洗涤,将pH调至7-8,以稀HCl调至中性,离心得到沉淀,在烘箱中以40-50 ℃干燥48 h得到氧化石墨。

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