[发明专利]CIP清洗工作站及其清洗设备的方法

摘要

本发明涉及生物制药领域，公开了一种CIP清洗工作站及其清洗设备的方法，该CIP新型清洗工作站包含清洗模块，用于清洗待清洗设备，原位清洗CIP清洗工作站还包含配液模块及控制模块；其中，配液模块用于自动根据待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液；控制模块用于控制清洗模块及配液模块的开启或关闭。该CIP清洗工作站能够自动的清洗待清洗设备，不用人工清洗，减轻了工人的工作压力。

主权项

1.一种CIP清洗工作站，包含清洗模块，用于清洗待清洗设备，其特征在于，所述原位清洗CIP清洗工作站还包含配液模块及控制模块；其中，所述配液模块用于自动根据所述待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液；所述控制模块用于控制所述清洗模块及所述配液模块的开启或关闭；其中，所述清洗模块包含：PW管道、清洗罐、循环泵、注射用水WFI管道、润洗罐、呼吸器、清洗管路、CIP液供给管道、工业蒸汽管道、换热器、纯蒸汽管道及循环回路，其中，所述PW管道与所述清洗罐、所述循环泵顺序相连；所述润洗罐与所述WFI管道、所述纯蒸汽管道均相连；所述呼吸器架设在所述润洗罐上；所述清洗管路与所述CIP液供给管道相连；所述工业蒸汽管道与所述换热器相连，所述循环回路设在所述清洗罐上；所述配液模块包含：酸罐及碱罐，其中，所述酸罐及所述碱罐均与所述清洗模块相连；所述CIP清洗工作站还包括：测量模块，用于在清洗过程中测量所述待清洗设备内清洗液的相关参数；判断模块，用于根据所述测量模块测量的相关参数判断是否继续清洗；所述控制模块还用于控制所述测量模块的开启或关闭。