[发明专利]CIP清洗工作站及其清洗设备的方法

说明书

本发明涉及生物制药领域，公开了一种CIP清洗工作站及其清洗设备的方法，该CIP新型清洗工作站包含清洗模块，用于清洗待清洗设备，原位清洗CIP清洗工作站还包含配液模块及控制模块；其中，配液模块用于自动根据待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液；控制模块用于控制清洗模块及配液模块的开启或关闭。该CIP清洗工作站能够自动的清洗待清洗设备，不用人工清洗，减轻了工人的工作压力。

技术领域

本发明涉及生物制药领域，尤其涉及一种CIP(CLEAN IN PLACE，原位清洗)清洗工作站及其清洗设备的方法。

背景技术

目前，CIP清洗工作站广泛应用于生物制药、配液系统、生物发酵等对清洗要求较高的行业，利用该CIP清洗工作站可以对制药系统、配液系统及生物发酵系统等进行彻底清洗，以达到避免交叉污染，无死角等卫生级要求。传统的CIP清洗工作站包括清洗罐、清洗泵、清洗管路、CIP液供给管道组成，清洗罐用于储存清洗液，清洗泵不仅可以将清洗液输送至待清洗模块，还可以在配制清洗液时起到循环作用，保证清洗液均匀，清洗管路用来连接清洗罐和清洗泵，清洗罐连接待清洗设备，CIP液供给管道与清洗罐相连，配合蒸汽在线灭菌可杀灭待清洗设备中所有的微生物，达到无菌效果。但是，当待清洗设备中有蛋白质、脂肪、盐等需要清洗时，目前的清洗方法是人工配制清洗液，人工分解设备或者进入待清洗设备清洗，清洗时间长，工人比较辛苦，此外，这样的清洗方法无法保证有效去除待清洗设备中的蛋白质、脂肪、盐等。

发明内容

本发明提供一种CIP清洗工作站及其清洗设备的方法，能够自动的清洗待清洗设备，不用人工清洗，减轻了工人的工作压力。

为解决上述技术问题，本发明的实施方式提供一种CIP清洗工作站，包含清洗模块，用于清洗待清洗设备，所述原位清洗CIP清洗工作站还包含配液模块及控制模块；

其中，所述配液模块用于根据所述待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液；

所述控制模块用于控制所述清洗模块及所述配液模块的开启或关闭。

本发明实施方式相对于现有技术而言，CIP清洗工作站中增加了配液模块和控制模块，在开启控制模块后，控制模块就能够自动的开启配液模块和清洗模块，配液模块就可以自动根据待清洗设备内物料的相关参数来配置清洗液；清洗模块就可以自动使用配液模块配制的清洗液来清洗待清洗设备，不用人工清洗，减轻了工人的工作压力。

另外，所述CIP清洗工作站还包含：

测量模块，用于在清洗过程中测量所述待清洗设备内清洗液的相关参数；

判断模块，用于根据所述测量模块测量的相关参数判断是否已将所述待清洗设备清洗干净；

所述控制模块还用于控制所述测量模块的开启或关闭。

测量模块可以检测待清洗设备内清洗液的流量、酸碱度及温度等参数，从而能够根据参数调配清洗液，使得清洗液与待清洗设备内的物质特性相符，从而将待清洗设备清洗干净；判断模块可以根据测量模块测量到的相关参数来判断是否继续清洗，当不需要继续清洗时，就可以停止供给清洗液，转而进行后续的简单处理，而不用像现有技术中人工清洗那样不断的加清洗液进行清洗，因此，这种CIP清洗工作站不仅大大减少清洗液的用量，而且可以缩短清洗时间，大大提高清洗效率。

另外，所述CIP清洗工作站还包含：

清扫模块，用于在所述判断模块判定已将所述待清洗设备清洗干净之后，吹扫排放所述清洗设备中残留的液体。

当清洗模块已经将待清洗设备清洗干净时，清扫模块就可以吹扫排放所述清洗设备中残留的液体，从而保证使用完毕后，CIP清洗工作站中易残存液体的各模块无残留，方便下次使用，同时也可以延长该工作站的寿命。

附图说明