[发明专利]CIP清洗工作站及其清洗设备的方法有效

专利信息
申请号: 201410362837.0 申请日: 2014-07-28
公开(公告)号: CN105320234B 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 康丽;贺国伦;崔璐;喻进;刘志平;彭志良 申请(专利权)人: 上海森松制药设备工程有限公司
主分类号: G06F1/18 分类号: G06F1/18
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 成丽杰
地址: 201600 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: cip 清洗 工作站 及其 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种CIP清洗工作站,包含清洗模块,用于清洗待清洗设备,其特征在于,所述原位清洗CIP清洗工作站还包含配液模块及控制模块;

其中,所述配液模块用于自动根据所述待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液;

所述控制模块用于控制所述清洗模块及所述配液模块的开启或关闭;

其中,所述清洗模块包含:PW管道、清洗罐、循环泵、注射用水WFI管道、润洗罐、呼吸器、清洗管路、CIP液供给管道、工业蒸汽管道、换热器、纯蒸汽管道及循环回路,其中,所述PW管道与所述清洗罐、所述循环泵顺序相连;所述润洗罐与所述WFI管道、所述纯蒸汽管道均相连;所述呼吸器架设在所述润洗罐上;所述清洗管路与所述CIP液供给管道相连;所述工业蒸汽管道与所述换热器相连,所述循环回路设在所述清洗罐上;

所述配液模块包含:酸罐及碱罐,其中,所述酸罐及所述碱罐均与所述清洗模块相连;

所述CIP清洗工作站还包括:

测量模块,用于在清洗过程中测量所述待清洗设备内清洗液的相关参数;

判断模块,用于根据所述测量模块测量的相关参数判断是否继续清洗;

所述控制模块还用于控制所述测量模块的开启或关闭。

2.根据权利要求1所述的CIP清洗工作站,其特征在于,所述CIP清洗工作站还包含:

清扫模块,用于在所述判断模块判定已将所述待清洗设备清洗干净之后,吹扫排放所述清洗设备中残留的液体。

3.根据权利要求1所述的CIP清洗工作站,其特征在于,所述测量模块包含流量计、温度传感器、pH计及电导率仪;所述流量计、所述温度传感器、所述pH计及所述电导率仪均与所述清洗模块相连。

4.根据权利要求2所述的CIP清洗工作站,其特征在于,所述清扫模块包含压缩空气管道、压缩空气过滤器及排放管道,其中,所述压缩空气管道与所述压缩空气过滤器相连,所述压缩空气过滤器与所述清洗模块相连。

5.一种如权利要求1所述的CIP清洗工作站清洗设备的方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、开启所述控制模块;

S2、所述控制模块控制所述清洗模块对所述待清洗设备进行冲洗;

S3、所述控制模块控制所述配液模块根据所述待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液;

S4、所述控制模块控制所述清洗模块利用所述配液模块配制的清洗液对所述待清洗设备进行再次冲洗。

6.根据权利要求5所述的CIP清洗工作站清洗设备的方法,其特征在于,在所述S3之后,在所述S4之前,所述方法还包括以下步骤:

S5、所述控制模块控制所述测量模块实时测量所述待清洗设备内清洗液的相关参数;

S6、所述控制模块控制所述判断模块根据所述测量模块测量的相关参数判断是否已将所述待清洗设备清洗干净;

S7、当所述判断模块判定所述待清洗设备已被清洗干净时,再对所述待清洗设备进行润洗。

7.根据权利要求6所述的CIP清洗工作站清洗设备的方法,其特征在于,所述CIP清洗工作站还包括清扫模块,

在所述S7之后,所述方法还包括以下步骤:

S8、所述控制模块控制所述清扫模块吹扫排放所述清洗设备中残留的液体。

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