[发明专利]新型薄膜晶体管及光电子器件和微电子器件有效
申请号: | 201410349844.7 | 申请日: | 2014-07-22 |
公开(公告)号: | CN104134700B | 公开(公告)日: | 2017-02-01 |
发明(设计)人: | 梅增霞;叶大千;刘利书;梁会力;刘尧平;杜小龙 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L31/113 |
代理公司: | 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙)11391 | 代理人: | 范晓斌,郭海彬 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种新型薄膜晶体管及光电子器件和微电子器件。新型薄膜晶体管包括栅极、源极以及漏极;衬底;栅绝缘层;布置在所述栅绝缘层上的MgxZn1‑xO沟道层,其中0≤x≤1;其还包括布置在所述MgxZn1‑xO沟道层与所述源极之间的第二绝缘层,所述第二绝缘层由绝缘材料形成。本发明的MgxZn1‑xO新型薄膜晶体管,通过在沟道层和源极之间设置第二绝缘层作为势垒层,结合晶体管栅压的极性调控作用,改变了传统的晶体管特性,具有新颖的I‑V特性,构成新颖的器件结构,可应用于不同的光电子和微电子器件领域。 | ||
搜索关键词: | 新型 薄膜晶体管 光电子 器件 微电子 | ||
【主权项】:
一种新型薄膜晶体管,包括:栅极、源极以及漏极;衬底;栅绝缘层;和布置在所述栅绝缘层上的MgxZn1‑xO沟道层,其中0≤x≤0.5;其特征在于,还包括:布置在所述MgxZn1‑xO沟道层与所述源极之间的第二绝缘层,所述第二绝缘层由绝缘材料形成;其中,所述栅绝缘层由MgyZn1‑yO薄膜层形成,其中y≥0.5;或者,所述栅绝缘层由BeO薄膜层和位于所述BeO薄膜层上的MgyZn1‑yO薄膜层形成,其中y≥0.5。
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