[发明专利]具有沟槽场板的高压双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201410345970.5 申请日: 2011-07-08
公开(公告)号: CN104134664B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: C.卡道;N.克里施克;T.迈尔 申请(专利权)人: 英飞凌科技奥地利有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 申屠伟进,刘春元
地址: 奥地利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及具有沟槽场板的高压双极型晶体管。一种双极型晶体管结构包括半导体衬底上的外延层;在外延层中形成的双极型晶体管器件;以及在外延层中形成的沟槽结构,与双极型晶体管器件的至少两个相对的横向侧面相邻。该沟槽结构包括通过绝缘材料而与外延层隔开的场板。该双极型晶体管结构进一步包括基极触点,连接到双极型晶体管器件的基极;发射极触点,连接到双极型晶体管器件的发射极并且与所述基极触点隔离;以及在发射极触点和场板之间的电气连接。
搜索关键词: 具有 沟槽 高压 双极型 晶体管
【主权项】:
一种集成晶体管结构,包括:半导体衬底上的外延层;在所述外延层的第一区中形成的功率晶体管,具有漏极区、源极区和短接到所述源极区的体区;在所述外延层的第二区中形成的具有集电极、基极和发射极的双极型晶体管,与所述功率晶体管隔开;第一沟槽结构,在所述外延层中形成为与所述功率晶体管的至少两个相对的横向侧面相邻,所述第一沟槽结构包括通过绝缘材料而与所述功率晶体管的沟道区隔开的栅极电极;第二沟槽结构,在所述外延层中形成为与所述双极型晶体管的至少两个相对的横向侧面相邻,所述第二沟槽结构包括通过绝缘材料而与所述外延层隔开的沟槽电极;其中所述栅极电极、所述双极型晶体管的基极、以及所述双极型晶体管的发射极连接到彼此隔离的不同触点;以及其中所述发射极和所述沟槽电极处于相同的电位。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技奥地利有限公司,未经英飞凌科技奥地利有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410345970.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top