[发明专利]膜厚测定装置、膜厚测定方法及具有膜厚测定装置的研磨装置在审
申请号: | 201410330819.4 | 申请日: | 2014-07-11 |
公开(公告)号: | CN104275640A | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
发明(设计)人: | 野村季和;饭泉健;渡边和英;小林洋一 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B37/34;B24B49/00;H01L21/304 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;刘煜 |
地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种膜厚测定装置,具有:将基板(W)支承成水平的基板台(87);洗涤水供给部(90),其将洗涤水供给到基板台(87)上的基板(W)整个表面;膜厚测定头(84),其将光照射在基板台(87)上的基板(W)表面上的测定区域,生成来自测定区域的反射光的光谱,从该光谱确定基板(W)的膜厚;以及流体供给部(130),其在光的光路上形成气体流,将该气体流施加到测定区域。采用本发明的膜厚测定装置及膜厚测定方法,可提高膜厚的测定精度。 | ||
搜索关键词: | 测定 装置 方法 具有 研磨 | ||
【主权项】:
一种膜厚测定装置,其特征在于,具有:基板台,该基板台将基板支承成水平;洗涤水供给部,该洗涤水供给部将洗涤水供给到所述基板台上的基板的整个表面;膜厚测定头,该膜厚测定头将光照射在所述基板台上的所述基板的表面上的测定区域,生成来自所述测定区域的反射光的光谱,根据该光谱确定所述基板的膜厚;以及流体供给部,该流体供给部在所述光的光路上形成气体流,并将该气体流施加到所述测定区域。
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