[发明专利]一种金属件的真空镀膜方法有效

专利信息
申请号: 201410299957.0 申请日: 2014-06-26
公开(公告)号: CN104060224A 公开(公告)日: 2014-09-24
发明(设计)人: 章继波 申请(专利权)人: 深圳惠科精密工业有限公司;章继波
主分类号: C23C14/16 分类号: C23C14/16;C23C14/30;C23C14/34;C23C14/58
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 汤喜友
地址: 518000 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种金属件的真空镀膜方法,将金属件放置于真空室内,采用真空镀膜方法在金属件表面上沉积一层金属薄膜。所述金属件为铝材料,所述金属靶材为铝材料;镀膜工艺参数如下:真空度为3×10-3Pa-5×10-3Pa,金属件预热温度为70-150℃,施加于金属靶材上的负电压为200-1000V,沉积时间为50-120分钟,金属薄膜的厚度为50μm-80μm;采用本发明所述方法处理后的金属薄膜均匀并且附着力好,增强了产品表面镀层的耐磨性及耐腐蚀性。
搜索关键词: 一种 金属件 真空镀膜 方法
【主权项】:
一种金属件的真空镀膜方法,其特征在于:将金属件放置于真空室内,采用真空镀膜方法在金属件表面上沉积一层金属薄膜。
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