[发明专利]一种金属件的真空镀膜方法有效
申请号: | 201410299957.0 | 申请日: | 2014-06-26 |
公开(公告)号: | CN104060224A | 公开(公告)日: | 2014-09-24 |
发明(设计)人: | 章继波 | 申请(专利权)人: | 深圳惠科精密工业有限公司;章继波 |
主分类号: | C23C14/16 | 分类号: | C23C14/16;C23C14/30;C23C14/34;C23C14/58 |
代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 汤喜友 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种金属件的真空镀膜方法,将金属件放置于真空室内,采用真空镀膜方法在金属件表面上沉积一层金属薄膜。所述金属件为铝材料,所述金属靶材为铝材料;镀膜工艺参数如下:真空度为3×10-3Pa-5×10-3Pa,金属件预热温度为70-150℃,施加于金属靶材上的负电压为200-1000V,沉积时间为50-120分钟,金属薄膜的厚度为50μm-80μm;采用本发明所述方法处理后的金属薄膜均匀并且附着力好,增强了产品表面镀层的耐磨性及耐腐蚀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属件 真空镀膜 方法 | ||
【主权项】:
一种金属件的真空镀膜方法,其特征在于:将金属件放置于真空室内,采用真空镀膜方法在金属件表面上沉积一层金属薄膜。
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