[发明专利]一种利用离子注入制备磷酸钛氧钾薄膜的方法有效
申请号: | 201410199630.6 | 申请日: | 2014-05-12 |
公开(公告)号: | CN103952766A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 卢霏;马钰洁;马长东 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | C30B31/22 | 分类号: | C30B31/22;C30B33/02;C30B29/10;C30B29/64 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 崔苗苗 |
地址: | 250061 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种利用离子注入制备磷酸钛氧钾薄膜的方法,将磷酸钛氧钾晶体分别放入乙醇和丙酮中超声清洗处理;将低能量的轻离子-H离子或He离子在常温下注入到磷酸钛氧钾材料中,注入离子能量范围是100keV~300keV,注入离子剂量范围1×1016离子/平方厘米~10×1016离子/平方厘米;将注入轻离子后的材料通过树脂胶绑定在衬底上,或将注入轻离子后的材料直接键合在衬底上,注入面粘在衬底上;对上述样品进行退火处理。该方法可以获得晶格结构较好的单晶材料;并且这种方法对于衬底材料的要求不高,很容易实现绑定。 | ||
搜索关键词: | 一种 利用 离子 注入 制备 磷酸 钛氧钾 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
一种利用离子注入制备磷酸钛氧钾薄膜的方法,其特征是,包括步骤如下:(1)将磷酸钛氧钾晶体分别放入乙醇和丙酮中超声清洗处理后,用氮气吹干;(2)将低能量的轻离子‑H离子或He离子,在常温下注入到磷酸钛氧钾材料中,注入离子能量范围是100keV~300keV,注入离子剂量范围1×1016离子/平方厘米~10×1016离子/平方厘米;注入离子束流密度是3~4μA/cm2;(3)将注入轻离子后的材料通过树脂胶绑定在衬底上,或将注入轻离子后的材料直接键合在衬底上,注入面粘在衬底上;(4)对上述样品在空气中进行退火处理,退火温度由室温逐步升高,退火的高温范围为200~600℃,退火总时间2~6小时。
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