[发明专利]一种等离子体沉积装置及金刚石涂层的制备方法

摘要

本发明提供了一种等离子体沉积装置及金刚石涂层的制备方法，可制备大面积的金刚石涂层。该沉积装置由真空室、进气口、抽气口、阴极、阳极、制品台、轮子、导轨、驱动电机、直流电源组成；真空室内设置有多个阴极和多个阳极，制品台下方安装有轮子并设置在导轨上，驱动电机可驱动制品台进行往复运动。金刚石涂层的制备方法为：真空室内气压维持在5000-20000Pa区间内，电弧电源的电流范围在50～200A之间，电压范围在60～130V之间，制品台的温度保持在800℃-1000℃之间，启动驱动电机，使得制品台以1mm-20mm/s的速度进行往复运动。该发明的优点在于：利于制备大面积的金刚石涂层，提高了制备的金刚石涂层厚度的均匀性。

主权项

一种多电极直流电弧等离子体沉积装置，由真空室、进气口、抽气口、阴极、阳极、制品台、轮子、导轨、驱动电机、直流电源组成；其特征在于：真空室顶部设置有进气口，底部设置有抽气口，真空室左右两侧各设置有多个阴极和多个阳极，阴极和阳极数量相等，阴极和阳极成对安装在真空室同一高度，每对电极在同一直线上，相邻两对电极平行安置，所有相邻成对电极间距相同，真空室底部设置有制品台，制品台上方可放置待涂层的制品，制品台下方安装有轮子并设置在导轨上，导轨的方向与相对阴极和阳极的连线垂直，驱动电机可驱动制品台进行往复运动，运动速度可根据驱动电机的转速变化而调整，直流电源连接在阴极和阳极上。