[发明专利]相移掩模板和源漏掩模板

摘要

本发明属于半导体技术领域，具体涉及一种相移掩模板和源漏掩模板。一种相移掩模板，包括由不透光的图案覆盖的不透光区和未被所述图案覆盖的透光区，所述图案在与所述透光区相对的区域包括至少两个拐点，在所述透光区对应着相邻的至少两个所述拐点之间的所述图案的外侧相应设置有光学遮挡单元，所述光学遮挡单元使得设置有所述光学遮挡单元的所述透光区的光强降低。该相移掩模板和相应的源漏掩模板，使得相移掩模板和源漏掩模板在不透光图案存在拐点时，光强分布更均匀，减小半导体器件不良的产生几率。

主权项

一种相移掩模板，包括由不透光的图案覆盖的不透光区和未被所述图案覆盖的透光区，所述图案在与所述透光区相对的区域包括至少两个拐点，其特征在于，在所述透光区对应着相邻的至少两个所述拐点之间的所述图案的外侧相应设置有光学遮挡单元，所述光学遮挡单元使得设置有所述光学遮挡单元的所述透光区的光强降低。