[发明专利]一种金属氧化物纳米晶须/Si复合材料及其催化生长方法有效
申请号: | 201410155767.1 | 申请日: | 2014-04-18 |
公开(公告)号: | CN103943725A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 余锡宾;吴刚;吴圣垚;杨海;李宇生 | 申请(专利权)人: | 上海师范大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0216;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 刘懿 |
地址: | 200234 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种金属氧化物纳米晶须/Si复合材料及其催化生长方法。该发明具有如下优点:1.生长的纳米晶须/Si复合材料形貌均匀可控,光学稳定性好且具有较好耐高温性能。2.能大幅的提升硅基太阳能电池片的各项性能参数和光电转换效率。3.工艺简单,操作性强,原料廉价且能重复使用,生产成本低,效益高,适用于工业大生产。本发明工艺主要是运用催化化学沉积方法,形成一层形貌均匀可控、厚度约为20-100nm的金属氧化物纳米晶须/Si复合材料。利用纳米晶/量子点的陷光效应、限域效应和多重激子效应等,大幅提高晶硅电池片的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 氧化物 纳米 si 复合材料 及其 催化 生长 方法 | ||
【主权项】:
一种金属氧化物纳米晶须/Si复合材料催化生长方法,具体步骤如下:a)溶液的配置:(1)0.0001mol/L~1mol/L的催化剂溶液,加入1mol/L~6mol/L的氢氟酸,(2)0.05mol/L~6mol/L的氢氟酸/双氧水蚀刻液,(3)0.0001mol/L~5mol/L金属离子的纳米晶须生长母液;b)电池片的预处理:将已经制好p‑n结的晶硅电池片快速浸渍到催化剂溶液中1~200s,使电池片表面形成金属氧化物晶种;取出后沉浸到蚀刻液中1~200s,进行各向异性腐蚀,取出后沥水,吹干;c)纳米晶须的生长:将上述电池片快速移入母液中1~100s,进行纳米晶须的生长蚀刻;d)洗涤处理:用去离子水清洗1~5min,吹干;e)热处理:将洗涤后的电池片在100℃~400℃热处理1~30min。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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