[发明专利]一种半导体集成电路用显影液在审
| 申请号： | 201410153319.8 | 申请日： | 2014-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN103955120A | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 江磊;金旭 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 徐萍 |
| 地址： | 215021 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体集成电路用显影液，所述显影液包括的组分有有机碱、聚醚型非离子表面活性剂和超纯水。通过上述方式，本发明的半导体集成电路用显影液具有生产成本低、显影性能良好、金属离子含量低、适用范围广等优点，能广泛使用在半导体集成电路制造过程的光刻工艺中，用此显影液显影后显影残渣少、图形光滑、图形边缘清晰整齐、无图形坍塌。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 集成电路 显影液 | ||
【主权项】：
一种半导体集成电路用显影液，其特征在于，所述显影液包括的组分有有机碱、聚醚型非离子表面活性剂和超纯水。
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