[发明专利]反应装置及其方法在审
申请号: | 201410138627.3 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN104979234A | 公开(公告)日: | 2015-10-14 |
发明(设计)人: | 陈柏颕 | 申请(专利权)人: | 陈柏颕 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙) 11301 | 代理人: | 刘祖芬 |
地址: | 中国台湾高雄市凤*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种反应装置及其方法,主要是在一密闭的本体单元内盛装预定量的超临界流体,配合在本体单元内设置一电极单元,电极单元包括一用以承载一待熟化材料(或待处理材料)的正电极件,及一负电极件,且分别电连接一供电单元的正极、负极,借此不但可利用超临界流体溶解待处理材料的表面杂质,并配合正、负电极件于通电后,正、负电极件正电极件作为牺牲阳极而对待熟化材料待杂质原子进行拔离作用(或待处理材料)进行杂质原子拔离作用,正、负电极件待如此可使待熟化材料在低温下就可以缩短熟化反应时间且使均匀度增加,或使待处理材料在低温就可以进行优化,且结构更加致密、纯化、甚至使化学反应或化学沉积反应在低温就可进行。 | ||
搜索关键词: | 反应 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种反应装置,其特征在于,包含:一个本体单元,包括一个壳体,以及一个能够分离地盖设于该壳体的盖体,该壳体与该盖体并共同界定出一个密闭腔室;一个流体供应单元,用以将预定量的一个工作流体输入该密闭腔室中;一个超临界催化单元,设置于该本体单元并用以对该密闭腔室内的工作流体施以加热及加压作用,使得该密闭腔室内的该工作流体成为一个超临界流体;一个供电单元,设置于该本体单元而用以供应运作所需电力,该供电单元具有一个正极与一个负极;及一个电极单元,设置于该壳体内且包括一个正电极件及一个负电极件,该正电极件与该负电极件分别电连接于该供电单元的该正极与该负极,一个待处理材料置于该密闭腔室内,借助该正电极件与该负电极件的通电,使得该超临界流体成为一个带电荷超临界流体,进而对该待处理材料进行杂质原子拔离、加速熟化反应及结构重整作用。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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