[发明专利]曝光光罩以及彩色滤光片的制作方法有效
申请号: | 201410136781.7 | 申请日: | 2014-04-04 |
公开(公告)号: | CN103869606A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 徐亮 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;G03F7/20;G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;杨林 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种曝光光罩,用于彩色滤光片的制作工艺,所述曝光光罩包括复数个曝光区域以及隔离所述复数个曝光区域的遮光区域,其中,所述曝光区域的边缘设置有复数个相互间隔的第一遮光图案。本发明还公开了一种彩色滤光片的制作方法,包括步骤:(a)提供一具有薄膜晶体管阵列的下玻璃基板;(b)在薄膜晶体管阵列上制备第一绝缘保护层;(c)应用光刻工艺在所述第一绝缘保护层上制备获得所述彩色滤光片;其中,所述光刻工艺包括制备彩色光阻层并对彩色光阻层进行曝光显影的步骤,进行曝光时采用了如前所述的曝光光罩。 | ||
搜索关键词: | 曝光 以及 彩色 滤光 制作方法 | ||
【主权项】:
一种曝光光罩,用于彩色滤光片的制作工艺,所述曝光光罩(40)包括复数个曝光区域(402)以及隔离所述复数个曝光区域(402)的遮光区域(401),其特征在于:所述曝光区域(402)的边缘设置有复数个相互间隔的第一遮光图案(403)。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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