[发明专利]曝光光罩以及彩色滤光片的制作方法有效
申请号: | 201410136781.7 | 申请日: | 2014-04-04 |
公开(公告)号: | CN103869606A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 徐亮 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;G03F7/20;G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;杨林 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 以及 彩色 滤光 制作方法 | ||
技术领域
本发明属于液晶面板加工技术领域,涉及一种用于制作彩色滤光片的曝光光罩,还涉及一种将彩色滤光片整合到薄膜晶体管阵列基板上(Color filter on array,COA)的方法。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD),为平面超薄的显示设备,它由一定数量的彩色或黑白像素组成,放置于光源或者反射面前方。液晶显示器功耗很低,并且具有高画质、体积小、重量轻的特点,因此倍受大家青睐,成为显示器的主流。目前液晶显示器是以薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)液晶显示器为主。
TFT-LCD之所以能迅猛发展,与其更多的基于非晶硅平台有关(当然很小一部分产品也使用多晶硅),价格便宜,工艺简单,均一性较好,所以现在出现了55英寸、65英寸等大尺寸的产品。当液晶面板的尺寸大了以后,线路的阻抗增加,就需要用更粗、更厚或者导电率更好的金属配线,厚度是无法无限度增加的,导电率最好的材料是金属银和铜,更好的实用的导电材料估计在很长时间内都不会有突破,那就只能增加线宽了,这就进一步降低了TFT-LCD的开口率。
针对TFT-LCD开口率低的缺点,从技术角度有很多方案可以解决此问题,比如使用阻抗更低的金属导线,使用更具有挑战性的设计方案,使用一些新的液晶显示模式。其中的一种方式是将彩色滤光片整合到薄膜晶体管阵列基板上(Color filter on array,COA)。如图1所示的一种采用COA技术的液晶面板,其包括上玻璃基板10、下玻璃基板20以及上玻璃基板10和下玻璃基板20之间的液晶层30。下玻璃基板20上靠近液晶层30的一侧设置有多个TFT201,每个TFT201对应连接有一像素电极205,通常像素电极205上还设置有透明的钝化层。由于采用了COA技术,TFT201和像素电极205之间还设置有彩色滤光片203,所述彩色滤光片203包括红色滤光单元203R、绿色滤光单元203G和蓝色滤光单元203B;其中,每一像素电极205分别对应一个红色滤光单元203R或绿色滤光单元203G或蓝色滤光单元203B;其中,TFT201与彩色滤光片203之间由第一绝缘保护层202隔离,彩色滤光片203与像素电极205之间由第二绝缘保护层204隔离;在上玻璃基板10靠近液晶层30的一侧设置有黑色矩阵101阵列,每一黑色矩阵101分别对应于两个滤光单元203R、203G、203B的相邻区域,防止光线泄露;黑色矩阵101阵列上覆盖有ITO共电极102。相对于传统的液晶面板,采用COA技术的液晶面板不存在彩色滤光单元与像素电极未严格对准的问题,因此可以提高液晶面板的开口率。
但是,在这种结构的液晶面板中,彩色滤光片203制作于TFT201上,在液晶面板的加工过程中,彩色滤光片203是采用光刻工艺制备,三种不同颜色的滤光单元203R、203G、203B分三道光刻工序先后制作,为了防止光线泄露,需要将相邻的两个滤光单元203R、203G、203B紧密结合连接。如图2所示,以红色滤光单元203R和绿色滤光单元203G为例,两个滤光单元203R和203G的连接部紧密结合连接,并且两个滤光单元在边缘处层叠,在层叠的位置会有一凸起部分,这个凸起部分被称为角段差,层叠的高度为h。角段差过高,会造成很多不良,例如两个滤光单元之间会发生漏光,所以在制作彩色滤光片的工艺中需要控制角段差的高度。
发明内容
鉴于现有技术存在的不足,本发明提供了一种曝光光罩,该曝光光罩主要应用于彩色滤光片的制作工艺,特别是在采用COA技术的液晶面板的彩色滤光片的制作工艺中,采用该曝光光罩可以有效地控制角段差的高度。
为了达到上述的目的,本发明采用了如下的技术方案:
一种曝光光罩,用于彩色滤光片的制作工艺,所述曝光光罩包括复数个曝光区域以及隔离所述复数个曝光区域的遮光区域,所述曝光区域的边缘设置有复数个相互间隔的第一遮光图案。
优选地,第一遮光图案的面积为25~100μm2。
优选地,第一遮光图案的形状为正方形、长方形、三角形或棱形。
优选地,每两个第一遮光图案之间的间距相等。
优选地,所述曝光区域中还设置有复数个第二遮光图案;其中,按照远离所述曝光区域的边缘的方向,依次设置所述第一遮光图案和第二遮光图案。
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