[发明专利]曝光光罩以及彩色滤光片的制作方法

权利要求书

1.一种曝光光罩，用于彩色滤光片的制作工艺，所述曝光光罩（40）包括复数个曝光区域（402）以及隔离所述复数个曝光区域（402）的遮光区域（401），其特征在于：所述曝光区域（402）的边缘设置有复数个相互间隔的第一遮光图案（403）。

2.根据权利要求1所述的曝光光罩，其特征在于：第一遮光图案（403）的面积为25～100μm²。

3.根据权利要求1所述的曝光光罩，其特征在于：第一遮光图案（403）的形状为正方形、长方形、三角形或棱形。

4.根据权利要求1所述的曝光光罩，其特征在于：每两个第一遮光图案（403）之间的间距相等。

5.根据权利要求1-4任一所述的曝光光罩，其特征在于：所述曝光区域（402）中还设置有复数个第二遮光图案（404）；其中，按照远离所述曝光区域（402）的边缘的方向，依次设置所述第一遮光图案（403）和第二遮光图案（404）。

6.根据权利要求5所述的曝光光罩，其特征在于：所述曝光区域（402）包括相对的第一侧边缘Ⅰ和第二侧边缘Ⅱ，第一侧边缘Ⅰ中的第一遮光图案（403）与第二侧边缘Ⅱ中的第二遮光图案（404）一一对应，第一侧边缘Ⅰ中的第二遮光图案（404）与第二侧边缘Ⅱ中的第一遮光图案（403）一一对应。

7.根据权利要求6所述的曝光光罩，其特征在于：第二遮光图案（404）的面积为6.25～25μm²。

8.根据权利要求6所述的曝光光罩，其特征在于：第二遮光图案（404）的形状为正方形、长方形、三角形或棱形。

9.根据权利要求5所述的曝光光罩，其特征在于：在所述曝光区域（402）中，遮光图案（403、404）的密度为30%～90%。

10.一种彩色滤光片的制作方法，其特征在于，包括步骤：

（a）提供一具有薄膜晶体管（201）阵列的下玻璃基板（20）；

（b）在薄膜晶体管（201）阵列上制备第一绝缘保护层（202）；

（c）应用光刻工艺在所述第一绝缘保护层（202）上分别制备彩色滤光单元（203R、203G、203B），获得所述彩色滤光片（203）；

其中，所述光刻工艺包括制备彩色光阻层并对彩色光阻层进行曝光显影的步骤，进行曝光采用的曝光光罩为权利要求1-9任一所述的曝光光罩。