[发明专利]化学机械抛光的抛光垫及其制备方法

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光的抛光垫制备方法，解决了现有抛光垫工艺较复杂，脱易脱层、能耗高、成本高、生产周期长的问题，技术方案包括先制造抛光层，然后在抛光层上浇铸缓冲层，最后经熟化后得到抛光垫，抛光层和缓冲层是通过连续浇铸的方式制造出来，无需粘合剂，而是通过化学键连接在一起。本发明抛光垫的抛光层和缓冲层的结合很牢固，不存在层间粘合剂易受到抛光液的化学侵蚀的问题，具有工艺难度低、生产成本低、使用寿命长的优点。

主权项

一种化学机械抛光的抛光垫制备方法，其特征在于，至少包括相连的抛光层和缓冲层，其制备方法包括以下步骤： （1）未固化抛光层制备：将A组份和B组份按2:1至3:1的比例混合后浇铸在模具上，在20‑45℃下凝胶化1‑15分钟得到未固化的抛光层， 其中，A组份为含有5‑28重量%的未反应的NCO基团的异氰酸酯封端的预聚体，B组份包括多官能团的烯属不饱和化合物、分子量为1000‑2000的高分子量多元醇、催化剂、聚合物微球、匀泡剂和自由基引发剂； （2）缓冲层的制备：将C组份和D组份按2:3至3:1的比例混合后得到缓层冲预浇铸液，将所述缓冲层预浇铸液浇铸在步骤（1）所述的未固化的抛光层上，然后在60‑100℃下凝胶化10‑60分钟得到缓冲层，缓冲层中的多官能团的烯属不饱和化合物与抛光层中的含多官能团的烯属不饱和化合物进行自由基聚合形成化学键连接，使缓冲层与抛光层相连； 其中，C组份含有5‑28重量%的未反应的NCO基团的异氰酸酯封端的预聚体；D组份包括多官能团的烯属不饱和化合物、分子量为2100‑4000的高分子量多元醇、催化剂、聚合物微球、匀泡剂和自由基引发剂。 （3）抛光垫的制备：将相连的抛光层和缓冲层熟化后得到抛光垫。