[发明专利]掩膜版、掩膜图案生成控制系统及方法、掩膜系统有效
| 申请号： | 201410112466.0 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN103913957A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 沈奇雨 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/76 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供了一种掩膜版、掩膜图案生成控制系统、掩膜系统及掩膜图案生成控制方法，上述的掩膜版，包括一能够透过曝光激励的本体，所述本体内形成有一图案形成腔，所述图案形成腔的底部为一水平面，所述本体上还设置有一用于容纳能够阻挡曝光激励透过的粉状物质的容纳腔，所述容纳腔与所述图案形成腔连通，使得所述粉状物质能够在一图案生成激励的作用下，进入所述图案形成腔，并在所述水平面上生成与待形成的电路图案相对应的掩膜图案。本发明降低了掩膜版的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 图案 生成 控制系统 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种掩膜版，包括一能够透过曝光激励的本体，其特征在于，所述本体内形成有一图案形成腔，所述图案形成腔的底部为一水平面，所述本体上还设置有一用于容纳能够阻挡曝光激励透过的粉状物质的容纳腔，所述容纳腔与所述图案形成腔连通，使得所述粉状物质能够在一图案生成激励的作用下，进入所述图案形成腔，并在所述水平面上生成与待形成的电路图案相对应的掩膜图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410112466.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：热泵热水器
- 下一篇：显示面板及显示面板的制作方法
