[发明专利]背照式图像传感器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201410084268.8 申请日: 2014-03-07
公开(公告)号: CN103811511A 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 饶金华;孙玉红;张克云 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种背照式图像传感器及其形成方法,其中,图像传感器包括:衬底,衬底具有第一表面、以及与第一表面相对的第二表面,衬底内具有感光器件;至少位于感光器件上方的衬底第一表面的器件层;位于感光器件正上方的器件层表面的凸部,凸部表面为弧面、且相对于器件层表面凸起,感光器件与凸部之间的部分器件层材料为透光材料,凸部的材料为透光材料;位于凸部表面的反光层,反光层用于反射光线;位于衬底第二表面的滤色层结构、以及位于滤色层结构表面的微透镜结构,滤色层结构和微透镜结构的位置与感光器件对应,外部光线自衬底第二表面入射、并通过微透镜结构和滤色层结构进入感光器件。所述背照式图像传感器的光能损失减少、光电转换效率提高。
搜索关键词: 背照式 图像传感器 及其 形成 方法
【主权项】:
一种背照式图像传感器的形成方法,其特征在于,包括:提供衬底,所述衬底具有第一表面、以及与所述第一表面相对的第二表面,所述衬底内具有感光器件;至少在所述感光器件上方的衬底第一表面形成器件层;在感光器件正上方的器件层表面形成凸部,所述凸部表面为弧面、且相对于器件层表面凸起,所述感光器件与凸部之间的部分器件层材料为透光材料,所述凸部的材料为透光材料;在所述凸部表面形成反光层,所述反光层用于反射光线;在形成反光层之后,在衬底的第二表面形成滤色层结构、以及位于滤色层结构表面的微透镜结构,所述滤色层结构和微透镜结构的位置与感光器件对应,外部光线自衬底第二表面入射、并通过微透镜结构和滤色层结构进入感光器件。
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