[发明专利]一种平面光波导器件制作方法有效
| 申请号： | 201410057208.7 | 申请日： | 2014-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN103760638A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | 柳进荣;李朝阳 | 申请（专利权）人： | 四川飞阳科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G02B6/136 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 610209 四川省成都市双*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种平面光波导器件制作方法，包括：在二氧化硅芯层上形成光刻胶掩膜，对所述光刻胶掩膜进行热板坚膜，采用干法刻蚀工艺刻蚀所述二氧化硅芯层，形成波导芯层。直接采用光刻胶作为二氧化硅芯层的掩膜，无需制作多晶硅层或金属层，简化了制作流程，工艺简单，降低了制作过程中出现错误的几率，提供了产品的良率。并且，采用热板坚膜工艺对光刻胶掩膜进行坚膜，提高了光刻胶掩膜的强度，降低了在刻蚀二氧化硅芯层时对光刻胶掩膜形貌的破坏，最大程度降低了光刻胶掩膜形貌差而对二氧化硅芯层的刻蚀产生不良影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 波导 器件 制作方法 | ||
【主权项】：
一种平面光波导器件制作方法，其特征在于，包括：在二氧化硅芯层上形成光刻胶掩膜；对所述光刻胶掩膜进行热板坚膜；采用干法刻蚀工艺刻蚀所述二氧化硅芯层，形成波导芯层。
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